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纳米稀土XYCX-600

纳米稀土XYCX-600

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产品介绍


纳米抛光粉XYCX-600



主要质量指标及产品牌号


XYCX-800XYCX-600

XY-400

XY-100

XY-50
技术参数:




稀土化合物的含量:96%96%96%

CeO2在稀土中的含量:80%80%96%

平均粒度:

800nm

600nm400nm100nm50nm
pH值:7±0.57±0.57±0.57±0.511±0.5
外观:白色粉末白色粉末白色粉末乳白色胶体乳白色胶体
建议抛光浓度:80-120g/L50-70g/L80-120g/L

抛光温度:15-35℃15-35℃15-35℃30-40℃30-40℃
包装:20Kg20Kg20Kg25-500Kg/桶25-500Kg/桶
CeO2纯度:


99.9%99.9%
CeO2含量:


30±1%20±1%
介绍:该抛光粉切削力强、粒度均匀、易清洗、不残留,尤其适合抛光硬质材料。该抛光粉是一种高兼容稀土抛光粉,粒度均匀,悬浮性好,可在低浓度下获得很高的抛光效率,镜片表面光洁度好,没有细的擦痕,适用于抛光中等以上精度要求的零件,并对软硬材质的抛光都适应,具有通用性。该抛光粉是一种高纯稀土抛光粉,粒度均匀,悬浮性好,性能优异,尤其适合抛光硬质材料。
该抛光液是由高纯超细氧化铈球形颗粒、分散剂、螯合剂、氧化剂等组成,悬浮性好,性能优异,易清洗,不残留。该抛光液是由高纯单分散纳米氧化铈晶粒、分散剂、螯合剂、氧化剂等组成,悬浮性好,性能优异,易清洗,不残留。
应用:对磨耗度小(FA小于100),材质硬度大(HK大于595),例:H-K9L、H-ZlaF51、H-LaF5、H-ZBaF5、LaK7、BaK7等,配合使用适当的聚胺脂抛光片,能得到优质的表面光洁度。对磨耗度小(FA小于70),材质硬度小(HK在400左右),例:ZF1、ZF2、ZF3、ZF4等系列和对磨耗度(FA>120),硬度大的HOYA,OHARA,SCHOTT进口材料(HK在580以上),配合使用适当的聚胺脂抛光片,均能得到优质表面光洁度。主要应用于光洁度要求高及软材质的光学玻璃上。如:数码相机镜头、投影机镜头、液晶显示屏抛光等。主要应用于液晶显示屏表面、光盘、各种棱镜及反射镜、激光光电子、军事领域精密光学元件的超光滑抛光。主要应用于硅单晶片、砷化镓片、蓝宝石晶片及半导体化合物晶体衬底的超光滑抛光。


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