纳米稀土XYCX-400

产品介绍

纳米抛光粉XYCX-400

	主要质量指标及产品牌号
	XYCX-800	XYCX-600	XY-400	XY-100	XY-50
技术参数：
稀土化合物的含量：	96%	96%	96%
CeO₂在稀土中的含量：	80%	80%	96%
平均粒度：	800nm	600nm	400nm	100nm	50nm
pH值：	7±0.5	7±0.5	7±0.5	7±0.5	11±0.5
外观：	白色粉末	白色粉末	白色粉末	乳白色胶体	乳白色胶体
建议抛光浓度:	80-120g/L	50-70g/L	80-120g/L
抛光温度：	15-35℃	15-35℃	15-35℃	30-40℃	30-40℃
包装：	20Kg	20Kg	20Kg	25-500Kg/桶	25-500Kg/桶
CeO₂纯度：				99.9%	99.9%
CeO₂含量：				30±1%	20±1%
介绍：	该抛光粉切削力强、粒度均匀、易清洗、不残留，尤其适合抛光硬质材料。	该抛光粉是一种高兼容稀土抛光粉，粒度均匀，悬浮性好，可在低浓度下获得很高的抛光效率，镜片表面光洁度好，没有细的擦痕，适用于抛光中等以上精度要求的零件，并对软硬材质的抛光都适应，具有通用性。	该抛光粉是一种高纯稀土抛光粉，粒度均匀，悬浮性好，性能优异，尤其适合抛光硬质材料。	该抛光液是由高纯超细氧化铈球形颗粒、分散剂、螯合剂、氧化剂等组成，悬浮性好，性能优异，易清洗，不残留。	该抛光液是由高纯单分散纳米氧化铈晶粒、分散剂、螯合剂、氧化剂等组成，悬浮性好，性能优异，易清洗，不残留。
应用：	对磨耗度小（FA小于100），材质硬度大（HK大于595），例：H-K9L、H-ZlaF51、H-LaF5、H-ZBaF5、LaK7、BaK7等，配合使用适当的聚胺脂抛光片，能得到优质的表面光洁度。	对磨耗度小（FA小于70），材质硬度小（HK在400左右），例：ZF1、ZF2、ZF3、ZF4等系列和对磨耗度（FA>120），硬度大的HOYA,OHARA,SCHOTT进口材料（HK在580以上），配合使用适当的聚胺脂抛光片，均能得到优质表面光洁度。	主要应用于光洁度要求高及软材质的光学玻璃上。如：数码相机镜头、投影机镜头、液晶显示屏抛光等。	主要应用于液晶显示屏表面、光盘、各种棱镜及反射镜、激光光电子、军事领域精密光学元件的超光滑抛光。	主要应用于硅单晶片、砷化镓片、蓝宝石晶片及半导体化合物晶体衬底的超光滑抛光。

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